第69章 山巍[01] 13.5nm工艺制程。（第4/4页）

最终击中直径30μm的靶材料（锡液滴）。

视角追随其中一条光线，忽然向后拉远，视角范围内出现数以万计的紫色细长光线穿过一个又一个圆形长管最后以平均两次击中同一靶材料电离锡原子，释放等离子体，激发纳米级光子，完成光刻机的曝光步骤。

视角再向后拉远，饶是有着先进两百年的科技技术的系统也不由为这号称工业皇冠的euv工作时的内部所震撼。

激光经过多重反射镜均匀化、收集，投影掩膜，击中靶材料，获取需求中的等离子体。

接下来是利用收集镜收集等离子体发散的euv辐射汇聚成光源发送至光刻系统，并经由曝光系统获取最终的ic晶圆。

但盛明安的团队没有做后面的两步，只设计了光源系统的实验设计。

一秒钟五万次的高频率，不仅需要确保过程不出错，还必须保证准度、精确度，可量产，以及功率利用最大化等等……

所以一次的实验结果不能证明什么，他们连续实验多次，记录数据作比对，计算出一个最优概率。

键盘噼里啪啦的计算，所有人屏息以待。

助手姑娘猛然掐住杜颂的胳膊，龇牙咧嘴：“giao！怎么样了？！”

杜颂也疼得龇牙咧嘴，差点猛男落泪：“我不知道。”

助手姑娘又没想要他回答，眼睛悄悄溜向盛明安，内心呜呜穿防尘服的盛工就算从头包到脚还是无比帅气，所以快点告诉她结果吧！

盛明安：“各组报告结果。”

来了！

众人振奋！

一组报告：“二氧化碳脉冲激光器无损，功率消耗在预估范围内，光线利用率成功达到2%！”

二组报告：“散热系统启动！散热功能正常！”

三组报告：“传感器反馈激光和液滴同步对准，激光等离子体在预估范围内捕获！”

四组报告……

随着一个又一个与仿真预估无二的报告传入众人耳中，预示着光源系统设备实验验收圆满完成！

众人憋着一口气没出声，就等着盛明安总结。

盛明安不负众望，听完各组结果报告，对着扩音器宣布：“高阶光刻机光源系统技术研究项目圆满通过验收，”他稍稍提高音量，“我们的科研项目，激光等离子体极紫外光刻光源是——”

“13.5nm！”

原本想欢呼的众人脸上刚升起的笑容陡然僵住，瞳孔逐渐放大，呼吸急促，不敢置信，纷纷以为自己的耳朵坏了，他们出现了幻听。

盛明安语气里流泻出轻松的笑意：“恭喜大家。”

见众人没反应，他回头，疑惑：“你们不满意吗？”

林成建也懵了，小心翼翼地询问：“盛工，你刚才说13.5nm……不是16nm？”

同盛明安争论了将近半个月早已震惊过的程院长好笑地环顾众人表现不一的样子。

雷客比林成建还小声轻柔：“比asml euv的14nm还精确了0.5nm？”

杜颂捂着心脏，喃喃说道：“不是吧……我整天研究的就是这么牛逼的玩意？”

助理姑娘掐得更狠了，但杜颂激动的灵魂和兴奋的神经可以抚平身体的疼痛。

“啊，”盛明安下意识看向陈惊璆：“你们都有异议吗？”

陈惊璆惊讶过后便是一笑：“没有异议。他们惊喜过头了。”

盛明安又看向林成建等人，谁知他们面面相觑，陷入沉默，一秒、两秒、三秒……“啊啊啊啊——！！！”

猛然爆发的尖叫声继续震破实验室的天花板，要不是固化玻璃隔绝了噪声污染不会影响到实验室设备，热爱实验室设备的盛明安就该拉下脸，而负责掏钱买设备的陈惊璆应该会冷脸赶人出去了。

但无伤大雅的此刻，他们纵容每一个团队成员尽情放纵无以言表的兴奋和激动。