第64章 星晓[11] ASML EUV发布！（第3/5页）

陈天鹤此行的目的。

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光源系统是光刻机制造的核心，是晶圆光刻工程的起始步，与光刻工程后续每一步息息相关。

光源系统主要三大单元是光的产生、收集和均一化，初代光刻机的光源系统还包括光的纯化，但第四代、第五代的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。

光是雕刻的工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。

光刻分辨率有一道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方面难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。

套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。

至于产能，则与光源系统的稳定相关。

以上是对激光器的要求，相对整个光源系统的技术要求不算高，系统工程程序中最难的步骤是光的收集。

收集难度大，转化效率也低。

雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：“所需的极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几次反射，最终剩下的光线不到2%！”

围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。

光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。

光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是反射镜的精度。

“精度必须以皮秒来计算。”

换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。

盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”

当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！”

难度多大？

最浅显易懂的比喻便是将一面直径不超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过一根头发的直径。

而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。

全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反射镜。

当然，反射镜不对华出口。

盛明安：“不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

“数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”

盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。

他胸有成竹，心有沟壑。

他不必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信的心。

“杜颂，打开你的modelica先进行初步的超精密激光器建模仿真。”

modelica是一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。

杜颂：“已在创建。”

他领着自己小组成员低头忙碌。

“雷客，你调整一下光路结构。”

“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。

盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。

驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。