第73章 山巍[05] 发光。（二更）

“津市蓝河科技历时四年攻克13.5nm光源系统设备,项目通过验收，已申请国家专利，并列入国家重大科学工程项目。我相信你们都很感兴趣,现在我从euv的靶材、光源的优化和设计以及碎屑处理系统等装置进行理论阐明,实验为辅的演讲。”

盛明安无视多少双眼睛盯着他看,镇定自若的按照他的计划进行演讲。

而他演讲的内容既言之有物，又不会真正暴露光源系统设备的核心技术。

底下窃窃私语：“真的是13.5nm光源系统？！”

“专利申请是真的！”、“列入国家重大科学工程项目，很可能和微电子科技合作共同组装euv。”、“双工作台完成,如果蓝河科技关于13.5nmeuv的仿真建模……那么最迟明年，我国就有euv了！”

“卧槽！如果是真的，我们还稀罕什么asml？照我国的行动速度，不出两年，肯定完善不输给美国半导体协会的半导体产业链！”

“盛明安真的是我盛神？！我盛神不是科大学生？他不是才大二？我记得他研究量子力学去了！”

“狗p！你不知道盛神光学专业的吗？光学专业搞光刻机才是光宗耀祖！”

“啊这……别驴我，国内光学专业就是混日子的。”

莫伦科夫脸色难看，眉头紧皱,保罗向前倾身质疑：“是骗局吗？”

莫伦科夫：“先听听看。”

不止他们，asml的高管神色肃穆，在场没人比他更具危机感,因为全球没有哪家光刻机可媲美asml的euv。

他们一家独大，实行科技霸权,如果盛明安的13.5nm光源系统设备真的攻克了,那就意味着他们将失去这独特的霸权地位,不得不与人平分市场,更甚他们还落后了华国的光刻机技术！

其他人诸如日本的天野浩，台积电的副总，华芯国际、华兴科技、华电科等知名老总，以及邱博士和庄博士都全神贯注听盛明安的演讲。

无论是asml还是华国的蓝河科技拥有高阶极紫外光刻机对除了美国、荷兰以外的国家而言其实都一样,一家独大的局面被打破自然再好不过，但这也意味着他们将来有可能会失去华国这个大市场。

华国每年芯片进口量超出全球芯片市场的一半，这占比巨大的进口量意味华国是一个巨大的芯片市场，而生产顶尖芯片的美国、日本和韩国都可以瓜分这个市场。

一旦这个市场自给自足，都将是他们的损失。

可这不意味着他们不能继续与华国合作，不意味他们不能投资蓝河科技，利益从来不会被封锁，封锁技术只是为了独占更大的利益。

封锁技术不能获取利益时，他们就会选择开放共享。

盛明安：“光学系统光源收集采用mo/si多层膜制备反射镜，对波长13.5nm的euv光的反射率可以达到70%。根据mo原子和si原子交替排列，使极紫外光发生干涉……”

他平缓而冷静的叙说，底下的人渐渐平静，尽力跟上他的思路，录音的录音、做笔记的做笔记，大部分人已经逐渐跟不上他的思路，正因此心中信任的天平不自觉倾向于他。

一些认为13.5nm光源系统被攻破是谎言的学者本意想揭穿骗局，现在却已经信服，剩下大半特意交了五千入场费那就是来见证奇迹的！

结果没有辜负他们的期盼，盛明安真的带来了奇迹！

上一刻他们为高通和asml联手打造的顶级处理器而绝望、羡慕、嫉妒……心中滋味杂陈，此刻就尝到了奇迹带来的无比美妙的兴奋激动感。

“如何提高euv靶材组分、形态，如何优化激光源，以及通过采取双脉冲方案提高光源的ce值……”

关于这方面的技术其实已经编写成论文投稿，此刻重说一遍信手拈来。

盛明安自顾自的说下去，没有人打断他，很快会场中只剩下他一个人的声音，清脆冷淡，引人入胜。